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집중 이온빔 주사 전자 현미경 | DB500

CIQTEK DB500은 나노 분석 및 시료 준비를 위한 집속 이온빔 컬럼을 갖춘 전계방출형 주사전자현미경으로, "SuperTunnel" 기술이 적용되어 저수차, 무자기 대물렌즈 설계, 저전압, 고해상도를 구현합니다. 나노 수준의 분석 능력을 보장하는 능력입니다. 이온 컬럼은 매우 안정적인 고품질 이온빔으로 Ga+ 액체 금속 이온 소스를 촉진하여 나노 제조 기능을 보장합니다.

DB500은 통합 나노 조작기, 가스 주입 시스템, 대물 렌즈용 전기 오염 방지 메커니즘, 24개의 확장 포트를 갖추고 있어 포괄적인 구성과 확장성을 갖춘 만능 나노 분석 및 제조 플랫폼입니다.

슈퍼터널
갈륨이온빔
완전히 구성됨

가스 주입 시스템
통합 매니퓰레이터
우수한 보증

• 자기가 없는 대물렌즈를 갖춘 "SuperTunnel" 전자 광학 기술로 고해상도 이미징에 적합하고 자기 표본 이미징과 호환됩니다.

• 고품질 나노 가공 및 TEM 시편 준비에 적합한 매우 안정적인 고품질 이온빔을 출력하는 집속 이온빔 컬럼입니다.

• 정밀한 핸들링을 위한 통합 제어 시스템을 갖춘 압전 구동식 조작기가 시편 챔버에 위치합니다.

• 강력한 확장성을 갖춘 자체 개발 시스템. 신속한 이온 소스 교환을 위한 통합 이온 소스 어셈블리 설계. 3년 보증이 포함된 탁월한 서비스를 제공합니다.

집중 이온빔 컬럼

해상도: 3nm@30KV

프로브 전류(이온빔 전류 범위): 1pA~50nA

가속 전압 범위: 500V~30kV

이온 소스 교환 간격: ≥1000시간

안정성: 72시간 동안 중단 없이 작동

나노 조작기

챔버 내부 장착

3축 전체 압전 구동

스테퍼 모터 정확도 ≤10 nm

최대 이동 속도 2mm/s

통합관제

이온빔-전자빔 협업

가스 주입 시스템

단일 GIS 설계

다양한 가스 전구체 소스를 사용할 수 있습니다.

바늘 삽입 거리 ≥35mm

동작 반복성 ≤10μm

가열 온도 제어 반복성 ≤0.1°C

가열 범위: 실온 ~ 90°C

통합관제

전자빔 시스템	전자총 유형	고휘도 쇼트키 전계 방출 전자총
	해결	1.2nm@15kV
	가속 전압	20V~30kV
이온빔 시스템	이온 소스 유형	액체 갈륨 이온 소스
	해결	3nm@30kV
	가속 전압	500V ~ 30kV
표본실	진공 시스템	완전 자동 제어, 오일 프리 진공 시스템
	카메라	세 대의 카메라 (광학 네비게이션 + 챔버 모니터 x2)
	무대 유형	5축 기계식 Eucentric 시편 스테이지
	무대 범위	X=110mm, Y=110mm, Z=65mm T: -10°~+70°, R:360°
감지기 및 확장	기준	렌즈 내 감지기 Everhart-Thornley 검출기(ETD)
감지기 및 확장	선택 과목	접이식 후방 산란 전자 검출기(BSED) 개폐식 주사 투과 전자 현미경 검출기(STEM) 에너지 분산 분광계(EDS) 전자 후방 산란 회절 패턴(EBSD) 나노 조작기 가스 주입 시스템 플라즈마 클리너 표본 교환 로드락 트랙볼 및 노브 제어판
소프트웨어	언어	영어
	운영 체제	윈도우
	항해	Nav-Cam, 제스처 빠른 탐색
	자동 기능	자동 밝기 및 대비, 자동 초점, 자동 스티그메이터

비디오: CIQTEK DB500(이중 빔 주사 전자 현미경)

골드 와이어
30kV / 800X / ETD
IC 칩 1
1 kV / 1500X / ETD
IC 칩 2
1kV / 15000X / ETD

핫 태그 : 집속이온빔 주사전자현미경 글로벌 공급업체 FIB 주사전자현미경 제조업체 글로벌 공급업체 FIB SEM FE SEM 최고의 가격 판매 FIB SEM FE SEM PDF 애플리케이션 노트 슬라이드 FIB(집속 이온 빔)를 사용한 SEM 이미징 분석 FIB SEM 검출기 EBSD BSED STEM EDS ETD 인렌즈 집중 이온빔 기둥이 있는 전계 방출 주사 전자 현미경 집속 이온빔 SEM 소개

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